отдаленная плазма

 

отдаленная плазма
Данным термином обозначается режим плазменной обработки, при котором подложка располагается отдельно от плазмы и, следовательно, не подвергается непосредственному воздействию плазмы. Необходимые реакции (например, травление) реализуются с помощью извлечения ионизированных элементов из плазмы и их направления к поверхности подложки. Обработка методом отдаленной плазмы позволяет добиться меньшего повреждения поверхности, чем в стандартном процессе, так как при этом генерируемые плазмой ионы долетают до поверхности подложки, уже потеряв часть энергии.
[http://www.cscleansystems.com/glossary.html]

Тематики

• полупроводниковые приборы

EN

• remote plasma